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集成电路制造工艺与工程应用
温德通更新时间:2019-11-29 19:22:10
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本书以实际应用为出发点,对集成电路制造的主流工艺技术进行了逐一介绍,例如应变硅技术、HKMG技术、SOI技术和FinFET技术,然后从工艺整合的角度,通过图文对照的形式对典型工艺进行介绍,例如隔离技术的发展、硬掩膜版工艺技术、LDD工艺技术、Salicide工艺技术、ESDIMP工艺技术、AL和Cu金属互连。然后把这些工艺技术应用于实际工艺流程中,通过实例让读者能快速的掌握具体工艺技术的实际应用。
品牌:机械工业出版社
上架时间:2019-06-11 00:00:00
出版社:机械工业出版社
本书数字版权由机械工业出版社提供,并由其授权上海阅文信息技术有限公司制作发行
集成电路制造工艺与工程应用最新章节
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- 后记
- 5.9 电容的测试条件
- 5.8 隔离的测试条件
- 5.7 接触电阻的测试条件
- 5.6 方块电阻的测试条件
- 5.5 pn结参数的测试条件
- 5.4 寄生MOS参数的测试条件
- 5.3 栅氧化层参数的测试条件
- 5.2 MOS参数的测试条件
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